势银研究 | 全球光刻相关配套功能试剂供应厂商及产品品类盘点

光刻相关配套功能试剂是指在集成电路制造工艺中与光刻胶配套使用的功能湿电子化学品，产品大类主要包括增黏剂、稀释剂、去边剂、显影液和剥离液，另外电镀和蚀刻药液一般是在晶圆制造、先进封装的光刻环节后会采用的两种功能型试剂。

大部分配套试剂的组分是有机溶剂和微量添加剂，溶剂和添加剂都是具有低金属离子及颗粒含量的高纯试剂，产品规格基本要求在G4、G5等级，对于低分辨率线宽IC产品，要求会在G3等级。

此外，抗反射涂层材料也会配合光刻胶使用，其主要作用是消除光刻胶——基片界面及光刻胶——空气界面的反射，降低由衍射引起的驻波效应对光刻胶性能的影响。

*若有部分厂商及产品未统计在内，或有较大出入，还请联系文末作者，我们会在后期做统一更正及补充。

表1 全球光刻相关配套功能试剂厂商及产品

来源：势银（TrendBank）整理