扩产能！上海新阳拟5.8亿投建光刻胶等集成电路关键工艺材料项目
上海新阳于2月14日晚间发布公告表示，公司拟与上海化学工业区管理委员会、上海化学工业区发展有限公司签订《投资意向协议》，变更全资子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司注册于上海化学工业区，并启动位于上海化学工业区的项目（以下简称“项目”）建设，该项目主要用于开发集成电路关键工艺材料，总投资金额约为58000万元人民币。
据悉，项目预计年产500吨I线、KrF、ArF 干/湿法光刻胶；年产10000吨光刻胶稀释剂；年产5000吨高选择比氮化钛刻蚀液系列产品；年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品。项目拟于2023年取得施工许可证，2025年底前竣工，2026年6月底前投产。上海新阳表示，为了进一步巩固在国内半导体材料行业的领先地位，实现我国集成电路关键工艺化学材料的自主可控，公司目前需要扩大产能以满足未来客户需求。项目投产将使公司清洗液系列产品、光刻胶系列产品、刻蚀液系列产品的产能获得极大提高。本项目建设符合公司长期发展的战略需求。此外，上海新阳在2月16日的投资者问答中回复，公司上海本部、合肥基地的光刻胶规划年产能为1000多吨。
上海新阳主攻KrF和干法ArF光刻胶，已经进入产能建设阶段。据2020年11月3日定增预案显示，公司拟定增募资不超过14.50亿元，其中8.15亿元拟投资于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目，主要目标为实现ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化，力争于2023年前实现上述产品的产业化，填补国内空白。2021年6月，上海新阳宣布，该公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品通过了客户认证，并成功取得订单，其中通过认证的KrF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司。目前除ArF光刻胶外，上海新阳EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中；KrF光刻胶已有订单客户超3家。据其最新财报显示，上海新阳去年第三季度实现营业收入32,776.16万元，较上年同比增长19.38%；去年第三季度实现归母净利403.61万元，较上年同比增长115.10%。
光刻胶是集成电路（IC）制造过程中极为重要的材料，同时也是一个技术壁垒高、产业高度集中，且有寡头垄断的产业。相比于美日韩发展几十年的半导体产业，中国在这方面的基础相对薄弱，只能尽全力投入研发、做足纵深，通过时间获得技术积累，在中高端光刻胶研发量产上奋起直追。除此之外，研发费用高昂也成为了本土化进程中的一道坎，在美对中实施实体清单、日本光刻胶断供以及近期的美荷日将对华升级半导体设备出口管制消息的背景下，本土化任重而道远。基于此背景，上海新阳也正在半导体集成电路领域中贡献自身力量。去年8月，上海新阳表示，公司自主研发的光刻胶产品已经销售，其中通过认证的KRF光刻胶产品客户数量不断增加，已进入国内主流芯片制造公司，（2022年）6月开始批量连续供应，测试认证中仍有多种产品。ArF光刻胶目前正处于客户端认证阶段，未来有很大的增长空间——
1、集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中，包括逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶，存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。
2、KrF光刻胶方面，KrF光刻胶产品通过认证客户不断增加，已在国内主流晶圆制造厂商处实现供货，目前已有订单客户超3家。
3、ArF光刻胶方面，ArF、ArF-i光刻胶研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试，此外ArF浸没式光刻胶产品已有样品在测试阶段。
4、EUV光刻胶方面，已开始进行EUV光刻胶的前期摸索性基础研发，EUV光刻胶基本的研发工作正在进行中。
来源：势银膜链
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