三星将引入Inpria无机光刻胶，再次推动供应多元
据外媒报道，三星正致力于推动光刻胶供应多元化的实现，计划在今年之内导入Inpria的无机光刻胶，目前已经完成性能评估，有望应用于5nm超精细工艺制程。光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%，全球市场规模近百亿美元，行业技术壁垒和客户壁垒高，目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断。势银（TrendBank）统计分析，2020年全球半导体及显示光刻胶市场规模到达44亿美元，预计未来2-3年内将保持年均7%的增速增长，预计2022年将超50亿美元。据悉，Inpria是全球唯一制造无机光刻胶的企业，能够帮助实现超精细半导体电路。三星计划加强EUV工艺实力，而光刻胶领域对日本依赖又比较严重，因此其积极推动光刻胶供应多元化。
Inpria拥有差异化性能的光刻胶技术，同时专注于EUV曝光工艺。Inpri作为EUV时代超精细半导体工艺的核心材料备受关注，台积电、英特尔、SK海力士等全球半导体公司以及包括三星电子在内的应用材料公司都对其进行了投资并支持其商业化。三星电子对Inpria EUV光刻胶的应用，被解读为强化超精细代工工艺。由于Inpria EUV 光刻胶在实现超精细电路方面有实力，可以显著改善EUV工艺中无意出现的缺陷，三星电子有望加强超精细半导体工艺，尤其是目前使用EUV最多的代工工艺。值得注意的是，Inpria产品的推出，将使三星的 EUV光刻胶供需多元化。以日本为中心，预计将对行业产生重大影响。无机光刻胶不仅对系统半导体有效，而且对存储器的EUV工艺也有效，因此预计未来三星将扩大其用途。
近日，据BusinessKorea消息，三星SDI已开始开发半导体光刻胶 (PR)。公司此举旨在将几乎被日本垄断的半导体光刻胶的生产内部化，并寻求使其电子材料业务部门的简单产品组合多样化。据悉，该部门最近为其研究中心引入了用于PR开发的8英寸晶圆光刻和涂胶显影设备以支持光刻胶开发事业。另外，今年6月2日，据韩网报道，随着三星将其 3D NAND** 从第 6 代升级到第 7 代，韩国化学公司 Miwon Commercial（美源商事株式会社，简称Miwon） 可能会向三星提供更多的KrF光刻胶原料。
来源：势银膜链
Inpria拥有差异化性能的光刻胶技术，同时专注于EUV曝光工艺。Inpri作为EUV时代超精细半导体工艺的核心材料备受关注，台积电、英特尔、SK海力士等全球半导体公司以及包括三星电子在内的应用材料公司都对其进行了投资并支持其商业化。三星电子对Inpria EUV光刻胶的应用，被解读为强化超精细代工工艺。由于Inpria EUV 光刻胶在实现超精细电路方面有实力，可以显著改善EUV工艺中无意出现的缺陷，三星电子有望加强超精细半导体工艺，尤其是目前使用EUV最多的代工工艺。值得注意的是，Inpria产品的推出，将使三星的 EUV光刻胶供需多元化。以日本为中心，预计将对行业产生重大影响。无机光刻胶不仅对系统半导体有效，而且对存储器的EUV工艺也有效，因此预计未来三星将扩大其用途。