打破日企垄断只是时间问题？东进半导体宣布与三星成功研发EUV光刻胶
据韩媒etnews报道，韩国东进半导体与三星电子合作，成功开发了超细半导体加工必不可少的材料——极紫外（EUV）光刻胶（PR）。EUV光刻胶是因其技术难度高而完全依赖国外的产品，此次韩国通过国内企业合作实现了国产化，意味着日企垄断的打破。
12月19日，东进半导体宣布于近期通过了三星电子的EUV光刻胶可靠性测试，发布此消息后，截至12月21日上午11时45分，东进半导体股价较前一交易日上涨12.8%。一位熟悉此事的业内人士表示，“东进半导体在其位于京畿道华城的工厂开发了 EUV光刻胶，并在三星电子的华城EUV生产线上对其进行了测试，并获得了最终的可靠性认证。”
光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料。它被施加在晶片上，当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理特性。通过用显影剂冲洗掉来绘制微电路，只留下必要的部分。在韩国，用于KrF和ArF工艺的光刻胶已大量生产，但没有用于可以绘制更精细电路的EUV光刻胶，大部分需要依赖日本进口。此外在2019年，日本与韩国爆发争议之后曾经限制三种重要的半导体材料对韩国的出口，EUV光刻胶就是其中之一，为此韩国公司也加快了EUV光刻胶的研发，东进半导体也是其中之一。东进半导体利用自有的基础设施，如现有的ArF曝光机和比利时半导体研究所I MEC EUV设备，开始进行EUV光刻胶国产化研发。今年早些时候，其加强了EUV光刻胶专家并加速了技术开发。此外，三星电子积极支持EUV测试环境，以达到可以在现场使用的质量水平。
目前尚不清楚三星电子是否会立即将东进半导体EUV光刻胶投入半导体生产线。正常情况下，如果质量合格就会投入量产线。因此，有人预测最早可能在明年上半年供应。三星电子和东进半导体目前都拒绝就本条新闻表态。三星电子的一位官员表示：“我们无法与合作公司确认测试是否通过。”
就该消息而言，三星与东进半导体研发的EUV光刻胶产品只是成功通过了测试，距离量产时间还不确定，但这一消息也表明三星已经在EUV光刻胶方面取得成功，量产将只是时间问题。注：文内信息仅为提供分享交流渠道，不代表本公众号观点